一加Ace2 Pro真機揭曉 鈦空灰配色質感拉滿
終于，在經過了幾波預熱之后，一加Ace2 Pro的外觀真機圖在網上出現了。還是博主數碼閑聊站曝光的，這次的外觀設計還是延續了一加11的方案，只是細節上有了調整，例如新加入了鈦空灰
快科技2月1日消息，據國外媒體報道稱，ASML已經確認，即將出貨新款的EUV光刻機EXE:5200，相比上代來說，表現更加強悍，當然不會賣給中國廠商。
按照官方的說法，EXE:5200是現有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改進款，其將擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000為每小時185片以上），可以更好的為2nm工藝量產做支撐。
在這之前，ASML宣布英特爾訂購了業界首個TWINSCAN EXE:5200光刻機（一種具有高數值孔徑和每小時 200 多片晶圓的極紫外 (EUV) 大批量生產系統），這標志著他們在引入0.55 NA EUV的道路上又邁出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數值孔徑，比前代EUV光刻機0.33數值孔徑透鏡的精度提高了，可以為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。
EUV 0.55 NA 的設計旨在從2025年開始實現多個未來節點，這是業內首次部署，隨后將采用類似密度的內存技術。
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