鴻蒙OS 4.0公測機型公布：甚至連nova6都支持
華為全新的HarmonyOS 4.0操作系統將于今天下午正式登場，官方在發布會之前也已經正式給出了可升級的機型產品，這意味著這些機型會率先支持升級享用。這次的HarmonyOS 4.0支持
財聯社11月6日訊（編輯 馬蘭）日本佳能公司在納米壓印技術上的突破，有望成為芯片光刻機老大荷蘭ASML的挑戰者，這對小型半導體制造商來說尤其值得期待。
佳能首席執行官Fujio Mitarai近表示，該公司的納米壓印設備價格將比ASML的光刻機少一位數，但目前還未決定其終定價。與此同時，佳能機器所需要的功耗僅為光刻機的十分之一。
據此前消息，ASML的新旗艦光刻機價值約4億美元，近人民幣27億元。其功耗則可能飆升至兩百萬瓦，比當前光刻機的額定耗電量還要高出一倍。
在擁有全球多光刻機的臺積電，80臺功耗一百萬瓦的光刻機已讓臺積電能源消耗占到全臺灣地區的12.5%，若其引入更新的下一代光刻機，臺積電的耗電量將更加恐怖。
佳能新設備的上市無疑能夠打破由少數現金充裕的頭部公司壟斷芯片制造的局面，小公司或許不再需要通過代工廠商來進行芯片生產，這對促進芯片競爭有著極為關鍵的作用。
無法取代，另辟戰場
88歲的Mitarai指出，納米壓印技術不太可能超越ASML的光刻機，但其將創造新的機會和需求，已經有很多客戶提出采購意向。
納米壓印是一種微納加工技術，它采用傳統機械模具微復型原理，能夠代替傳統且復雜的光學光刻技術。簡單而言，像蓋章一樣造芯片，把柵極長度只有幾納米的電路刻在印章上，再將印章蓋在橡皮泥上，得到與印章相反的圖案，經過脫模就能夠得到一顆芯片，這里的橡皮泥是指納米壓印膠，印章即模板。
近十年來，佳能一直與大日本印刷公司和存儲芯片制造商Kioxia Holdings合作開發納米壓印技術。與通過反射光工作的極紫外光刻（EUV）技術不同，納米壓印技術將電路圖直接壓印到晶圓上，且因其不使用鏡頭，可以用比現有曝光工藝更低的成本實現精細化生產芯片。
不過，納米壓印雖然仍能銜接先進的生產工藝要求，但在速度上較光刻機遜色不少。因此，ASML光刻機仍是當今世界先進的芯片制造機器，也是批量生產快速、節能芯片的首選設備。
佳能機器更像是為小型芯片生產商提供的選擇，同時也能讓臺積電和三星電子等大型代工商更容易生產小批量芯片，從而節約成本。
據悉，佳能正在建設自己的第一家納米壓印設備工廠，預計將在2025年上線。自今年年初以來，佳能股價已經累計上漲了27%，而另一家競爭對手尼康股價也上漲了24%，但該公司的光刻機設備競爭力遠不及ASML。
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