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快科技11月6日消息，近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受訪時表示，該公司基于NIL的新型芯片制造設備售價將比ASML的EUV少一位數。
目前，極紫外光刻機（EUV）的唯一供應商就是ASML，EUV對于大規模生產速度快、能耗低的芯片至關重要，但每臺機器的售價高達數億美元，只有少數公司才有能力購買。
為此，從2017年開始，佳能就與鎧俠，以及半導體零組件制造商大日本印刷株式會社（DNP）合作，研發基于納米壓?。∟IL）的量產技術，在不使用EUV的情況下將制程技術推進到5nm。
佳能表示，這套生產設備的工作原理和ASML光刻機不同，并不利用光學圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上，而是更類似于印刷技術，直接通過壓印形成圖案。
鎧俠曾經表示，由于NIL技術的微影制程較為單純，因此相比于EUV可以大幅減少耗能，并降低設備成本。
御手洗富士夫還表示：“我不認為納米壓印技術會取代EUV，但我相信這將創造新的機會和需求，而且我們已經收到了很多客戶的咨詢。”
同時其還表示，終的定價目前還沒有敲定，但希望這是一個完全的驚喜。
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