快科技2月1日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道稱,ASML已經(jīng)確認(rèn),即將出貨新款的EUV光刻機(jī)EXE:5200,相比上代來(lái)說(shuō),表現(xiàn)更加強(qiáng)悍,當(dāng)然不會(huì)賣給中國(guó)廠商。
按照官方的說(shuō)法,EXE:5200是現(xiàn)有初代High NA EUV光刻機(jī)EXE:5000的改進(jìn)款,其將擁有更高的晶圓吞吐量(EXE:5000為每小時(shí)185片以上),可以更好的為2nm工藝量產(chǎn)做支撐。
在這之前,ASML宣布英特爾訂購(gòu)了業(yè)界首個(gè)TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)(一種具有高數(shù)值孔徑和每小時(shí) 200 多片晶圓的極紫外 (EUV) 大批量生產(chǎn)系統(tǒng)),這標(biāo)志著他們?cè)谝?.55 NA EUV的道路上又邁出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數(shù)值孔徑,比前代EUV光刻機(jī)0.33數(shù)值孔徑透鏡的精度提高了,可以為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。
EUV 0.55 NA 的設(shè)計(jì)旨在從2025年開始實(shí)現(xiàn)多個(gè)未來(lái)節(jié)點(diǎn),這是業(yè)內(nèi)首次部署,隨后將采用類似密度的內(nèi)存技術(shù)。

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