快科技12月24日消息,近日,荷蘭光刻機巨頭ASML公司宣布,優(yōu)先向Intel公司交付其新型高數(shù)值孔徑(High NA EUV)的極紫外光刻機。
據(jù)悉,每臺新機器的成本超過3億美元,可幫助計算機芯片制造商生產(chǎn)更小、更快的半導(dǎo)體。
ASML官方社交媒體賬號發(fā)布了一張現(xiàn)場照片。圖可以看到,光刻機的一部分被放在一個保護箱中。箱身綁著一圈紅絲帶,正準(zhǔn)備從其位于荷蘭埃因霍溫的總部發(fā)貨。
“耗時十年的開創(chuàng)性科學(xué)和系統(tǒng)工程值得鞠一躬!我們很高興也很自豪能將我們的第一臺高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機交付給Intel。”ASML公司說道。
據(jù)了解,高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機組裝起來比卡車還大,需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸,其中包括13個大型集裝箱。
據(jù)估計,該光刻機將從2026年或2027年起用于商業(yè)芯片制造。
公開資料顯示,NA數(shù)值孔徑是光刻機光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo),直接決定了光刻的實際分辨率,以及高能達到的工藝節(jié)點。
一般來說,金屬間距縮小到30nm以下之后,也就是對應(yīng)的工藝節(jié)點超越5nm,低數(shù)值孔徑光刻機的分辨率就不夠了,只能使用EUV雙重曝光或曝光成形(pattern shaping)技術(shù)來輔助。
這樣不但會大大增加成本,還會降低良品率。因此,更高數(shù)值孔徑成為必需。
ASML 9月份曾宣布,將在今年底發(fā)貨第一臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機,型號“Twinscan EXE:5000”,可制造2nm工藝乃至更先進的芯片。

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